銷售咨詢熱線：
18911365393
| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,化工,生物產業,能源,電子 |
kSA 400 RHEED分析系統，適合各種RHEED系統和薄膜沉積系統（如：脈沖激光沉積設備PLD,濺射系統Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機化學氣象沉積MOCVD等）！目前第四代系統結合優質的硬件和軟件，為客戶提供豐富的RHEED分析信息。
kSA 400 RHEED分析系統 超過500個用戶，國內如南京大學、中科院半導體所、電子部11所、中國科技大學、復旦大學、上海技術物理研究所等；
技術參數：
• CCD系統：高速、高分辨和高靈敏度
• 光學系統：RHEED定量分析及成像分析
• 標準接口法蘭
主要特點：
• 圖像分析：單一圖像分析（靜態分析）模式，用戶選擇多圖像模式，聚焦模式，掃描模式，錄像模式，交互圖像疊加模式，2D和3D圖像分析；
• 實時衍射條紋演化監控拍攝；
• 實時薄膜沉積速率測量；
• 原位表面診斷分析
• 功能強大的軟件分析功能
• RHEED振蕩追蹤檢測
• 可擴展：Phase Locked Epitaxy (PLE), LEED, Auger/XPS,電子槍控制和搖擺曲線掃描；
專業的RHEED分析系統(kSA 400 Analytical RHEED System)，適合各種RHEED系統和薄膜沉積系統（如：脈沖激光沉積設備PLD,濺射系統Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機化學氣象沉積MOCVD等）！目前第四代系統結合優質的硬件和功能強大的軟件為客戶提供廣泛的RHEED分析信息。kSA 400 RHEED分析系統，適合各種RHEED系統和薄膜沉積系統（如：脈沖激光沉積設備PLD,濺射系統Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機化學氣象沉積MOCVD等）！目前第四代系統結合優質的硬件和軟件，為客戶提供豐富的RHEED分析信息。
實際應用廣泛，歡迎廣大新老客戶咨詢，我們會竭力為您解決問題。期待我們能成為朋友，能為您的科研事業盡到微薄之力，我們倍感榮幸。同時感謝廣大用戶對我們一直的支持。謝謝！
