桌面型原子層沉積系統

桌面型原子層沉積系統采用全新的設計理念、便捷的控制系統和豐富的成膜，為廣大科研工作者提供了更為有效的成膜設備。

詳細說明：

桌面型原子層沉積系統由哈佛大學納米科學中心薄膜沉積工藝研究科學家Dr. Philippe de Rouffignac設計，基于多年納米薄膜制備的豐富經驗以及對科研工作者切實研究需要的了解，推出了此桌面型、高性能的原子層沉積系統。*設備自2015年在CNS安裝以來，到目前為止已有超過1500人次使用，人性化的設計、便捷的操作和優質的成膜工藝，贏得了眾多科研工作者的贊譽。

主要特點：
1.腔室專為R&D設計和優化，樣品尺寸達直徑4’’,可升級至6''；
2.反應腔溫度可控范圍：RT-350℃；
3.前驅體源溫度可控范圍：RT-150℃；
4.腔室處理壓力可控范圍：0.1-1.5 torr；
5.源擴展多達5個；
6.快速循環處理功能；
7.氣路優化設計、腔體小型化設計；
8.一分鐘多達6-10；
9.成熟的薄膜Recipes內置程序；
10.觸屏PLC控制；
11.可配套手套箱使用；
12.可配備臭氧發生器；

13.可定制樣品夾具；

14.相比于市場上同類產品體積相對偏小，可以放置在凈化間；

15.可實現前驅體劑量的控制。

可處理材料：